の有効減衰長(EAL)と非弾性平均自由行程(IMFP)計算値の比較 determined using synchrotron radiation XPS with calculated inelastic mean free path (IMFP)Inoue, Keisuke*; Teraoka, Yuden; Jinno, Muneaki
有効減衰長EALは、X線光電子分光(XPS)を用いて薄膜の膜厚を求めるときに必須のパラメーターである。EALは実験的に求められていないことが多く、非弾性平均自由行程(IMFP)の計算値が代用される。今回SiOのEALを放射光エネルギー480-800eVの範囲で放射光光電子分光(SR-XPS)を用い測定した。実測したEALの値はIMFP計算値とは異なる値となった。
The effective attenuation length (EAL) is a necessary parameter for estimating the thin film thickness using X-ray photoemission spectroscopy (XPS). The inelastic mean free path (IMFP) is often used instead of the EAL because EAL is scarcely known. In this experiment, EAL values of SiO were measured in the photon energy region of 480 eV to 800 eV using synchrotron radiation photoemission spectroscopy. The estimated EALs are different from calculated IMFPs.
使用言語 |
: | Japanese |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | |
号 |
: | |
ページ数 |
: | |
発行年月 |
: | |
発表会議名 |
: | |
開催年月 |
: | 2010/11 |
開催都市 |
: | 吹田 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
使用施設 |
: | |
論文解説記事 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
被引用回数：