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量子ビーム照射による昆虫病原糸状菌の殺菌剤耐性変異体の作出

Generation of bactericide-resistant mutants of entomopathogenic fungi by quantum beams

篠原 忍*; 佐藤 勝也; 鳴海 一成; 田上 陽介*; 西東 力*

Shinohara, Shinobu*; Sato, Katsuya; Narumi, Issei; Tagami, Yosuke*; Saito, Tsutomu*

生物的防除に昆虫病原糸状菌を用いる場合、殺菌剤の使用が制限される。この課題の解決策の一つは殺菌剤耐性を持つ昆虫病原糸状菌を育種することである。演者らは第53回の本大会で、2種の昆虫病原糸状菌(${it Isaria fumosorosea}$${it Beauveria bassiana}$)に$$gamma$$線を照射することによって、殺菌剤耐性の変異体が得られることを明らかにした。しかし目標とする耐性レベルには達していなかった。そこで今回、イオンビームの単独照射及び$$gamma$$線+イオンビームの二段階照射による殺菌剤耐性変異体の作出を試みた。イオンビームの照射線量は生存率10%をもとに決定した(100及び200Gy)。$$gamma$$線の照射線量は従来の50及び500Gyとした。これまでに実施した3つの照射方法($$gamma$$線単独,$$gamma$$線+イオンビーム,イオンビーム単独)で得られた殺菌剤耐性変異体について、ベノミルとトリフルミゾールのMIC(最小発育阻止濃度)を調査したので、その結果を報告する。

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