• help
  • PC | SP
  • JP | EN
          
検索対象：     
報告書番号：
※ 半角英数字
 年 ～ 
 年
全てクリア
前の画面に戻る

Bi$$_{1-x}$$Pb$$_{x}$$NiO$$_{3}$$の電荷移動と巨大負の熱膨張

Charge transfer and negative thermal expansion of Bi$$_{1-x}$$Pb$$_{x}$$NiO$$_{3}$$

中野 紀穂*; 奈部谷 光一郎*; 東 正樹*; 岡 研吾*; 水牧 仁一朗*; 安居院 あかね; 上田 茂典*

Nakano, Kiho*; Nabetani, Koichiro*; Azuma, Masaki*; Oka, Kengo*; Mizumaki, Masaichiro*; Agui, Akane; Ueda, Shigenori*

高圧合成法で合成したペロブスカイト酸化物BiNiO$$_{3}$$は、AサイトのBiが電荷不均化したBi$$^{3+}$$Bi$$^{5+}$$Ni$$^{2+}$$O$$_{3}$$についてBiとNiの価数の決定を行うために、X線吸収分光と硬X線光電子分光によってBiとNiの価数の測定を行った。SXRDパターンのRietveld解析より、0.05$$leq$$x$$leq$$0.15の試料では三斜晶から斜方晶への構造相転移に伴って体積収縮がおきることが分かった。また、Bi$$_{1-x}$$Pb$$_{x}$$NiO$$_{3}$$(0.175$$leq$$x$$leq$$0.25)では、Bi$$^{3+}$$$$_{0.5}$$Bi$$^{5+}$$$$_{0.5}$$の電荷不均化の融解と、Bi$$^{5+}$$-Ni$$^{2+}$$の電荷移動は独立に起こることが明らかになった。

no abstracts in English

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

日本セラミックス協会第27回秋季シンポジウム

開催年月

 :

2014/09

開催都市

 :

鹿児島

開催国

 :

日本

キーワード

 :

no keyword

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

 :

研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

SPring-8(大型放射光施設)

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

 :

受委託・共同研究相手機関

 :

Access

 :

- Accesses

InCites™

 :

Altmetrics

 :

[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.

前の画面に戻る