イオン照射による非晶質SiNのスパッタリング ions北山 巧*; 森田 陽亮*; 中嶋 薫*; 鳴海 一雅; 齋藤 勇一; 松田 誠 
; 左高 正雄*; 木村 健二*
Kitayama, Takumi*; Morita, Yosuke*; Nakajima, Kaoru*; Narumi, Kazumasa; Saito, Yuichi; Matsuda, Makoto; Sataka, Masao*; Kimura, Kenji*
非晶質SiN膜へのサブMeV Cイオン照射では、スパッタリング収量(入射イオン1個当たりのスパッタされる標的原子数)が数千個に達するが、この観測結果は弾性衝突によるスパッタリング(弾性的スパッタリング)では説明できない。一方、非晶質SiN膜への100MeV Xe
イオン照射では、Cイオンに比べて電子的阻止能が大きいにもかかわらず観測されたスパッタリング収量は非常に小さく、この阻止能に依存するスパッタリング(電子的スパッタリング)でも冒頭の観測結果が説明できないことが明らかになった。本研究では、核的阻止能と電子的阻止能の比が異なるエネルギーでCイオンを非晶質SiN膜に照射し、各阻止能がスパッタリング収量にどのように影響するかを調べた。得られた結果を基に、冒頭に述べた観測結果が電子的スパッタリングと弾性的スパッタリングの相乗効果を考えることにより説明可能であることを報告する。
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使用言語 |
: | Japanese |
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開催年月 |
: | 2014/09 |
開催都市 |
: | 春日井 |
開催国 |
: | 日本 |
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