Plasma mirror frequency-resolved optical gating for simultaneous measurement of VUV waveform and plasma formation

真空紫外パルス波形およびプラズマ生成の同時測定のためのプラズマミラー周波数分解光ゲート法

板倉 隆二; 熊田 高之   ; 中野 元善*; 赤木 浩

Itakura, Ryuji; Kumada, Takayuki; Nakano, Motoyoshi*; Akagi, Hiroshi

本研究は、真空紫外光パルス波形とプラズマミラーの時間依存反射率を同時に計測する手法に関するものである。高強度レーザーパルスによって生成したプラズマミラーを超高速光スイッチとして用いて、周波数分解光ゲート測定を行い、真空紫外パルス波形とプラズマミラーの時間依存反射率を測定することが可能となり、測定したFROG画像と再構築したFROG画像が良い一致を示している。

This study represents a method for simultaneous measurement of a VUV waveform and time-dependent reflectivity of plasma mirror. We use a plasma mirror as ultrafast optical switching formed by an intense laser pulse and perform frequency-resolved optica gating measurement. The waveform of the VUV pulse and the time-dependent reflectivity of the plasma mirror can be retrieved with excellent agreement between obsereved and retrieved FROG traces.