Si結晶アナライザー背面反射TOF型分光器DNA(J-PARC)における同時多重入射バンド測定法を用いた広帯域micro eV非弾性散乱測定の現状

Status of simultaneous multiple incident band measurement method for broadband micro eV spectrum measurement on the Si crystal analyzer back scattering TOF spectrometer DNA at J-PARC

柴田 薫  ; 川北 至信  ; 中島 健次  ; 高橋 伸明*; 松浦 直人*; 富永 大輝*; 山田 武*

Shibata, Kaoru; Kawakita, Yukinobu; Nakajima, Kenji; Takahashi, Nobuaki*; Matsuura, Masato*; Tominaga, Taiki*; Yamada, Takeshi*

Si結晶アナライザー背面反射TOF型高エネルギー分解能分光器DNAにおいて広帯域に亘るmicro eV分解の非弾性散乱測定のため、パルス整形チョッパーの複数スリットを利用した同時多重入射バンドを用いる測定方法の開発を行った。ビームラインの最上流部に設置されているNo.1パルス整形チョッパーによるパルス整形入射ビームを、スリット開口時間のタイミングを調整して複数回測定により入射エネルギー幅を広げることで広帯域エネルギースペクトル測定になる測定法を開発実用化した。コミッショニング測定および共用実験での適用例を交えて報告予定である。

We developed a simultaneous multiple incident band measurement method for broadband micro eV spectrum measurement on the Si crystal analyzer back scattering TOF spectrometer DNA at J-PARC.