LOCA環境を逐次で加える際の照射条件の検討

Study of irradiation condition for sequencial LOCA test

Ito, Masayuki; Kusama, Yasuo; Okada, Sohei; Yagi, Toshiaki; Yoshida, Kenzo; Kawakami, Waichiro

LOCA模擬環境を逐次で加える際の放射線の照射条件を比較検討した。室温で1.0kGy/hでの照射(1)、時間短縮照射条件として70 $^{circ}$ Cの空気中で5.0kGy/hでの照射(2)と酸素加圧(0.5Mpa)で4.2kGy/hでの照射(3)の三条件である。線量はすべて1.5MGyとした。照射後試料を120 $^{circ}$ Cの蒸気-ケミカルスプレー環境(SC)およびSCに酸素を0.05MPa加えた環境(SCA)とに暴露した。暴露時間を変えた試料について機械的性質と絶縁抵抗値を測定した。

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使用言語	:	Japanese
掲載資料名	:	EIM-88-137
巻	:
号	:
ページ数	:	p.59 - 69
発行年月	:	1988/12
発表会議名	:	電気学会絶縁材料研究会
開催年月	:	1988/12
開催都市	:	東京
開催国	:
キーワード	:	LOCA

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登録番号 : B19881013
抄録集掲載番号 :
論文投稿番号 : 9130

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