MeVイオンマイクロビーム技術の開発; 原研・早稲田大学共同研究成果報告

Development of MeV ion microbeam technique

神谷 富裕; 水橋 清; 峰原 英介; 宇都宮 伸宏*; 田中 隆一; 丸山 倫夫*; M.Koh*; 則武 克誌*; 松川 貴*; 杉森 正章*; 滝口 吉郎*; 石川 正嗣*; 中田 康裕*; 清水 博明*; 後藤 誠*; 大泊 厳*

Kamiya, Tomihiro; Mizuhashi, Kiyoshi; Minehara, Eisuke; not registered; Tanaka, Ryuichi; Maruyama, Michio*; M.Koh*; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered; not registered

早稲田大学と原研は、MeV領域のマイクロビーム技術の開発を目的として、マイクロビーム形成装置を共同で設計・製作し、同大学理工学研究所の1.7MVタンデム加速器のビームラインに設置した。同加速器から引出された3MeV、Heのビームを用いてビーム集束化の実験を行い、ターゲットにおいて1.71.9mのサイズのビームスポットを得た。また、ビーム集束研究の基盤技術として、加速器、特にイオン源の電流安定化の検討・精密二連四重極電磁石レンズ(Qレンズ)の磁場解析、振動測定等を行うとともに、マイクロビーム技術開発研究に必要な実験の基礎となるデータを得た。本報告は本装置の概要及び共同研究の成果について述べる。

no abstracts in English