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高LET重イオンによるDNA損傷の非相同性末端結合による修復の解析

Analysis of non-homologous end joining repair of DNA damage induced by high LET heavy ions

和田 成一; 舟山 知夫; 松本 義久*; 大戸 貴代*; 坂下 哲哉; 浜田 信行*; 横田 裕一郎; 柿崎 竹彦; 細野 義夫*; 鈴木 紀夫*; 小林 泰彦

Wada, Seiichi; Funayama, Tomoo; Matsumoto, Yoshihisa*; Oto, Takayo*; Sakashita, Tetsuya; Hamada, Nobuyuki*; Yokota, Yuichiro; Kakizaki, Takehiko; Hosono, Yoshio*; Suzuki, Norio*; Kobayashi, Yasuhiko

高LET重イオン照射細胞におけるDNA2本鎖切断の非相同性末端結合修復を解明するため、非相同性末端結合を担うKuのDNA損傷に対する反応を解析した。照射細胞にはKu80の変異したxrs5細胞を形質転換し、GFPを融合したxrs5-GFP-Ku80とGFPのみのxrs5-GFPを用いた。そして$$gamma$$線及び各種イオンビーム(LET=2.7$$sim$$1610keV/$$mu$$m)を照射し、細胞の生存率を調べた。いずれの照射でもxrs5-GFP-Ku80はxrs5-GFPよりも放射線抵抗性であり、不活性化断面積の差はLETが増加するにつれて小さくなった。細胞核内の$$gamma$$H2AXとKuを観察したとき、Cイオン(108keV/$$mu$$m)照射では10$$sim$$30分後まで共局在が観察された。一方、Arイオン(1610keV/$$mu$$m)照射では、照射10分後は共局在するシグナルは観察されたが、照射20分後には明確な局在化は観察されず、LETによってDNA修復の非相同性末端結合の反応は異なっていた。

no abstracts in English

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