J-PARC 3-GeV RCSペインティング入射試験

Performance of the painting injection of the 3-GeV RCS in J-PARC

高柳 智弘   ; 原田 寛之*; 植野 智晶; 入江 吉郎*; 金正 倫計  ; 吉本 政弘  ; 神谷 潤一郎   ; 渡辺 真朗  ; 佐藤 健一郎*

Takayanagi, Tomohiro; Harada, Hiroyuki*; Ueno, Tomoaki; Irie, Yoshiro*; Kinsho, Michikazu; Yoshimoto, Masahiro; Kamiya, Junichiro; Watanabe, Masao; Sato, Kenichiro*

J-PARC 3-GeV RCSの入射バンプシステムにおいて、大強度陽子ビームを生成するペインティング入射試験を行った。その初期試験の結果と機器の性能特性について報告する。電磁石の磁場測定結果から、4台が直列に接続された水平シフトバンプ電磁石のうち、2台目と3台目の上・下鉄心コアの間に0.3mmの絶縁スペーサーを入れて全体の積分調整を行った。その結果、バンプの閉軌道のずれが1mm以下となることを確認した。また、水平ペイントバンプ電磁石によるビームの応答を測定し、各々の励磁量のバランス調整を行った。これにより、ペインティング入射に必要な精度の良いビーム制御が可能であることを確認した。

The examination of the painting injection of the 3-GeV RCS in J-PARC has been performed. The gap of the shift bump magnet was adjusted by the insulator thin sheets that thickness was decided by the experimental results and the analysis results. The integrated magnetic field will be zero and the displacement of the beam orbit was less than 1mm, which was confirmed by the beam examination of the response characteristic. Furthermore, the balance adjustment the exciting current revel and the magnetic field level that is the horizontal paint bump magnets were confirmed. So the positive proof of the beam control for the beam painting has been obtained.