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$$gamma$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$を併用した電子ビーム照射による空気中キシレンの分解

Oxidation of xylene in air using $$gamma$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$ under electron beam irradiation

箱田 照幸; 松本 加奈江*; 水野 彰*; 広田 耕一

Hakoda, Teruyuki; Matsumoto, Kanae*; Mizuno, Akira*; Hirota, Koichi

塗料工場からの換気ガス中に含まれるキシレンなどの電子ビーム(EB)照射による分解処理技術の開発のために、本研究ではEB照射と貴金属を担持していない$$gamma$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$を併用して、キシレンやその副生成物の分解を促進する触媒設置条件を明らかにするととともに、触媒表面上の酸化反応を定量した。その結果、電子が直接入射する位置に$$gamma$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$層を設置した場合に、主に副生成物が$$gamma$$-Al$$_{2}$$O$$_{3}$$表面上で分解し高濃度のCO$$_{2}$$が得られることがわかった。このCO$$_{2}$$は、照射によりアルミナ上に生成した酸化力の大きな正孔により有機物が分解することにより生成することが推察された。

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