大野 裕隆*; 岩瀬 彰宏*; 松村 大樹 
; 西畑 保雄; 水木 純一郎; 石川 法人 ; 馬場 祐治 ; 平尾 法恵; 園田 健*; 木下 幹康
Ono, Hirotaka*; Iwase, Akihiro*; Matsumura, Daiju; Nishihata, Yasuo; Mizuki, Junichiro; Ishikawa, Norito; Baba, Yuji; Hirao, Norie; Sonoda, Takeshi*; Kinoshita, Motoyasu
200MeV Xeイオンを照射したCeO
における照射損傷を広域X線吸収微細構造(EXAFS)測定及びX線光電子分光(XPS)測定により評価した。その結果、照射後にCeの周りの酸素欠損が生じていること,Ceの価数が+4から+3に変化していることが明らかになった。
Radiation damage of CeO irradiated with 200MeV Xe is characterized by EXAFS and XPS measurement. It is found that oxygen deficiencies are created after the irradiation, and charge state of Ce is changed from +4 to +3.
使用言語 |
: | English |
|---|---|---|
掲載資料名 |
: | |
巻 |
: | 266 |
号 |
: | 12-13 |
ページ数 |
: | p.3013 - 3017 |
発行年月 |
: | 2008/06 |
発表会議名 |
: | 14th International Conference on Radiation Effects in Insulators (REI-14) |
開催年月 |
: | 2007/08 |
開催都市 |
: | Caen |
開催国 |
: | France |
キーワード |
: | no keyword |
論文URL |
: |
|
|---|---|---|
使用施設 |
: | |
論文解説記事 |
: | |
受委託・共同研究相手機関 |
: |
Access |
: |
- Accesses |
|---|---|---|
InCites™ |
: |
パーセンタイル：96.13 分野：Instruments & Instrumentation |
Altmetrics |
: |
[CLARIVATE ANALYTICS], [WEB OF SCIENCE], [HIGHLY CITED PAPER & CUP LOGO] and [HOT PAPER & FIRE LOGO] are trademarks of Clarivate Analytics, and/or its affiliated company or companies, and used herein by permission and/or license.
