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6H-SiC基板へのフェムト秒レーザー改質による電気伝導のパルスピッチ依存性

Pulse pitch dependence of electric conduction by fs-laser-modification on 6H-SiC substrates

出来 真斗*; 伊藤 拓人*; 山本 稔*; 富田 卓朗*; 松尾 繁樹*; 橋本 修一*; 北田 貴弘*; 井須 俊郎*; 小野田 忍; 大島 武

Deki, Manato*; Ito, Takuto*; Yamamoto, Minoru*; Tomita, Takuro*; Matsuo, Shigeki*; Hashimoto, Shuichi*; Kitada, Takahiro*; Isu, Toshiro*; Onoda, Shinobu; Oshima, Takeshi

フェムト秒レーザーを炭化ケイ素(SiC)基板に照射することでSiCの電気伝導特性制御を試みた。実験は、フェムト秒レーザーを半絶縁性六方晶(6H)-SiC基板のSi面に照射し、未照射領域及び照射領域における電流電圧特性を比較した。その結果、未照射領域においては印加電圧+10Vにおける電流値が数pA程度であったのに対し、照射領域においては最大で数百nA程度となり5桁以上も電気伝導特性が変化することが明らかとなり、フェムト秒レーザーによりSiCの電気特性を改質できることを明らかにした。

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