田川 雅人*; 横田 久美子*; 岸田 和博*; 古山 雄一*; 戸出 真由美; 吉越 章隆 
; 寺岡 有殿; Minton, T. K.*
Tagawa, Masahito*; Yokota, Kumiko*; Kishida, Kazuhiro*; Furuyama, Yuichi*; Tode, Mayumi; Yoshigoe, Akitaka; Teraoka, Yuden; Minton, T. K.*
本研究ではDLC膜中にSiをドープすることにより、DLC薄膜が原子状酸素曝露を受けた際にSi酸化保護皮膜を形成する可能性について、放射光光電子分光法、及び、ラザフォード後方散乱法による表面分析と反応生成物直接観察を行うことで検証を行った。原子状酸素照射前後における放射光光電子スペクトルから、室温での照射にもかかわらず、酸化膜の形成が確認され、反応生成物の脱離も抑えられることがわかった。
no abstracts in English
使用言語 |
: | Japanese |
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: | 2011/08 |
開催都市 |
: | 山形 |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
: | no keyword |
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論文解説記事 |
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