Status of injection energy upgrade for J-PARC RCS

J-PARC RCSの入射エネルギー増強の状況

林 直樹  ; 原田 寛之  ; 發知 英明  ; 神谷 潤一郎   ; Saha, P. K.   ; 菖蒲田 義博   ; 高柳 智弘   ; 谷 教夫  ; 山本 風海   ; 山本 昌亘   ; 山崎 良雄 ; 吉本 政弘  ; 渡辺 真朗  ; 渡辺 泰広  ; 外山 毅*

Hayashi, Naoki; Harada, Hiroyuki; Hotchi, Hideaki; Kamiya, Junichiro; Saha, P. K.; Shobuda, Yoshihiro; Takayanagi, Tomohiro; Tani, Norio; Yamamoto, Kazami; Yamamoto, Masanobu; Yamazaki, Yoshio; Yoshimoto, Masahiro; Watanabe, Masao; Watanabe, Yasuhiro; Toyama, Takeshi*

J-PARC RCSの入射エネルギーを181から400MeVに増強する計画は、2013年に予定されており、これに向けさまざまな準備を進めている。パルス電磁石電源の一部は、既に電流定格の大きな電源に置き換え、問題なく運転に使用している。他方、IGBTチョッパ方式からスイッチングノイズの小さいコンデンサバンク方式の新型電源の変更のため開発を行っている。追加の電磁石系は、入射エネルギー増強後もセンター入射と、ビーム行き先別にペイント領域の切り替えを可能にする。出射部の漏れ磁場追加対策は、ビーム輸送系電磁石からの影響の完全除去から始める。補正四極電磁石系は、まず入射バンプ電磁石による関数補正のために設計製作する。リング中に2台あるプロファイルモニタは、位置の系統誤差を修正する改造を行うとともに色収差のない場所での測定のため、3台目を導入する。将来のビーム不安定性の要因となるキッカーのインピーダンス対策には、高逆耐電圧特性があり、かつ、低い順電圧でも機能するダイオード開発が必要である。それを使ったビーム試験でインピーダンス低減を示すデータを得た。

The injection energy upgrade from 181 to 400 MeV for J-PARC RCS is planned in 2013. One power supply was replaced and using for a normal operation. An IGBT chopper type power supply which has larger switching noise will be changed to a capacitor bank type. New injection system allows the center injection with 400 MeV and switching painting area. As further steps for the leakage field, it begins to diminish the effect from the beam transport line. A quadrupole corrector system is designed and fabricated to compensate the beta beat due to the injection bump as the first step. Two profile monitors will be modified to correct position systematic errors and third one is going to be installed at dispersion free section. It is important to minimize kicker impedance lower, which may cause the beam instability. A diode, which has high reverse breakdown voltage and works with lower forward voltage, has been developed. Using this new diode, an experiment shows the impedance becomes lower.