Cooperative behavior of the random and correlated pinning in Er123 films with columnar defects

円柱状欠陥を持つEr123薄膜でのランダムピン止め中心と相関ピン止め中心の協調的な振る舞い

淡路 智*; 難波 雅史*; 渡辺 和雄*; 伊藤 俊*; 青柳 英二*; 甲斐 英樹*; 向田 昌志*; 岡安 悟  

Awaji, Satoshi*; Namba, Masashi*; Watanabe, Kazuo*; Ito, Shun*; Aoyagi, Eiji*; Kai, Hideki*; Mukaida, Masashi*; Okayasu, Satoru

重イオン照射したEr123薄膜の磁束ピン止め特性を(, , )特性として詳細に調べた。B//cの曲線でマッチング磁場がc軸平行で0.3テスラとc軸から傾けたときは1.7テスラに相当するときに2つのピークが観測された。さらに()で=0(B//c)のときのピークは、円柱状欠陥によるピン止めに起因するが、磁場増加に伴い一旦減少するが不可逆磁場近傍では増大するようになる。c軸相関のピン止め中心とランダム分布のピン止め中心が協調して働いているモデルを用いると(B)の二重ピーク構造やの角度依存性を説明できることがわかった。

The flux pinning behaviors for the heavy ion irradiated Er123 films are investigated based on the detailed (, , ) properties. The double peaks of curves for //c appear in case of the matching field of 0.3 T along -axis and 1.7 T tilted from -axis. In addition, the peaks on () at = 0 (B//c), which originate from the columnar defects, decrease with increasing magnetic field but increase again near the irreversibility field. We found that the cooperation model of the -axis correlated and random pinning centers can describe the observed double peak behavior of (B) and the angular dependence of related to the correlated pinning.