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放射光XPSによるSi(100)2$$times$$1へのCH$$_{3}$$Cl吸着反応の研究

Study on adsorption reaction of CH$$_{3}$$Cl on Si(100)2$$times$$1 by means of SR-XPS

塚田 千恵; 吉田 光; 岡田 美智雄*; 吉越 章隆 ; 矢板 毅

Tsukada, Chie; Yoshida, Hikaru; Okada, Michio*; Yoshigoe, Akitaka; Yaita, Tsuyoshi

CH$$_{3}$$Clを用いた粘土鉱物中のCs除去反応を期待して、主要構成元素の一つであるSi表面におけるCH$$_{3}$$Cl分子吸着反応と吸着状態を放射光光電子分光によって調べた。Si(100)表面においてC$$_{3}$$Clが、CH$$_{3}$$とClに解離吸着することを高分解能光電子スペクトルで明らかにしたので報告する。

To achieve Cs decontamination in clay minerals by using CH$$_{3}$$Cl gas, we have investigated the adsorption reactions and adsorption states of CH$$_{3}$$Cl at Si surfaces. In this conference, we report that dissociative adsorption of CH$$_{3}$$Cl to form CH$$_{3}$$ and Cl was revealed from the high energy-resolutions photoemission spectra.

使用言語

 :

Japanese

掲載資料名

 :

巻

 :

号

 :

ページ数

 :

発行年月

 :

発表会議名

 :

2016年秋季第77回応用物理学会学術講演会

開催年月

 :

2016/09

開催都市

 :

新潟

開催国

 :

日本

キーワード

 :

Cs除去; CH3Cl; 分子吸着反応; 放射光光電子分光; 福島第一原子力発電所事故; Fukushima Daiichi Nuclear Power Station Accident

特許データ

 :

PDF

 :


論文URL

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研究データの公開先DOI

 :

使用施設

 :

SPring-8(大型放射光施設)

広報プレスリリース

 :

論文解説記事
(成果普及情報誌)

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