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Ion beam induced crosslinking reactions in poly(di-n-hexylsilane)

ポリジノルマルヘキシルシランのイオンビーム架橋反応

関 修平*; 前田 兼作*; 国見 仁久*; 田川 精一*; 吉田 陽一*; 工藤 久明; 杉本 雅樹; 森田 洋右; 瀬口 忠男; 岩井 岳夫*; 柴田 裕実*; 浅井 圭介*; 石榑 顕吉*

Seki, Shuhei*; not registered; not registered; not registered; Yoshida, Yoichi*; Kudo, Hisaaki; Sugimoto, Masaki; Morita, Yosuke; Seguchi, Tadao; not registered; Shibata, Hiromi*; not registered; not registered

シリコン系高分子の1つであるポリジノルマルヘキシルシラン(PDHS)の固相薄膜に対して、LETの異なる高エネルギーイオンビーム、電子線、コバルト60$$gamma$$線を照射した。LETは0.2~1620eV/nmの範囲で変化させた。照射によって、PDHSには不均一な架橋及び主鎖切断反応が誘起される。分子量分布の変化及びチャールズビーピナー関係式より架橋の確率を算出したところ、LETの増大とともに0.042から0.91へと増大した。

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分野:Chemistry, Physical

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