MeV級及びkeV級のイオンビームを用いたテフロンの三次元微細加工

Fabrication of 3D microstructure at teflon by MeV and keV ion beam

喜多村 茜; 佐藤 隆博; 江夏 昌志; 神谷 富裕; 小林 知洋*

Kitamura, Akane; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; Kamiya, Tomihiro; Kobayashi, Tomohiro*

MeV級のイオンマイクロビーム後のkeV級のイオンビーム照射により、耐薬品性が高く微細加工の困難なテフロン表面に、パターニングされた微細突起状表面の作製を行った。試料内部の密度を低下させるような条件でプロトンビーム描画を行い、その後に未照射のテフロン部分が突起状となるよう窒素分子イオンのスキャン照射を行うと、突起状表面の中に、直線と曲線により構成された描画パターンを平滑な表面として浮き上がらせることができた。これは、プロトンビームにより密度の低下した部分がその後の窒素分子イオンの照射中に試料温度が上昇したことによって溶融したためである。本研究では、この表面を作製するため、各ビームの照射条件とこの条件を用いて得られる表面形状をSEM観察により明らかにした。

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