イオンマイクロビームによるテフロン表面の三次元微細加工

Fabrication of microstructure at Teflon surface by ion microbeam

喜多村 茜; 佐藤 隆博; 江夏 昌志; 神谷 富裕; 小林 知洋*

Kitamura, Akane; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; Kamiya, Tomihiro; Kobayashi, Tomohiro*

耐薬品性が高く微細加工の困難なテフロン表面に、イオンマイクロビームを用いてマイクロメートルオーダーの高さを持つ円錐状突起物を形成し、その形状変化過程の解析を行った。高さのある円錐状突起物の形成は、パターン形状が円となるように螺旋状にプロトンビーム描画を行った場合に限定された。これは、試料内部から表面が隆起したためであることがわかった。また描画速度を変化させることで、最も高い円錐構造を形成できる速度には最適値が存在することもわかった。さらに、正方形内を螺旋状に描画することで四角錐の作製も可能であった。これら隆起構造の形成過程には、入射されたプロトンビームによる試料内部の温度上昇と分解ガスの発生による体積膨張が起因し、螺旋状描画がそれらの相互作用を最も強める方法であることを示した。

no abstracts in English