フッ素系高分子材料の新しい微細加工技術を開発、イオンビームで

A New microfabrication technique of fluoropolymer was developed, using ion beam

喜多村 茜; 佐藤 隆博; 江夏 昌志; 小林 知洋*; 神谷 富裕

Kitamura, Akane; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; Kobayashi, Tomohiro*; Kamiya, Tomihiro

「放射線と産業」のニュース記事として、イオンビームを用いてテフロン表面に三次元微小構造を作る最新の技術を報告する。テフロンは極めて高い化学薬品耐性を持つために広く利用されているが、一方で、この特長は薬品による処理ができず微細な加工が困難であるという欠点になっている。筆者らは2010年に、keV級イオンを注入することによりテフロン表面に多数の突起物が芝生状に形成することを発見し、これを足掛かりとして、MeV級のプロトンビームライティング(PBW)により、表面に微小構造体を隆起させる手法、試料内部を空洞にして中空構造体を作製する手法を次々と確立した。さらに、keV級イオン注入で前処理すると、MeV級PBWしても突起ができず平滑な面になることも見いだした。現在は、これらを組合わせて大きさや密度を制御した突起物と平滑面を二次元的かつ任意に配置し、しかもその領域の性質が異なる表面加工ができるようになった。

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