Si(111)表面酸化における準安定吸着酸素分子の解離反応キネティクス

Dissociation kinetics of metastable oxygen molecule in Si(111) surface oxidation

西本究*; Tang, J.*; 小川修一*; 吉越章隆 ; 石塚眞治*; 渡辺大輝*; 寺岡有殿; 高桑雄二*

Nishimoto, Kiwamu*; Tang, J.*; Ogawa, Shuichi*; Yoshigoe, Akitaka; Ishizuka, Shinji*; Watanabe, Daiki*; Teraoka, Yuden; Takakuwa, Yuji*

Si(111)77表面酸化では準安定吸着酸素分子が長い寿命をもち、Si(001)21表面酸化とは顕著に異なる酸化反応様式を示す。本研究ではSi(111)77表面室温酸化過程におけるO $_{2}$ $^{*}$ の挙動を解明するために、酸素吸着曲線,仕事関数,バンドベンディング,酸素原子とSi原子の化学結合状態を光電子分光によりリアルタイム観察した。それらの観察結果の相関から、初期酸化途中でO $_{2}$ 供給停止後のSi(111)表面酸化状態変化について詳しく検討した。Si表面のアドアトムに吸着したO $_{2}$ $^{*}$ は解離して内部に潜り込み、酸素吸着状態がpaul構造からins/tri構造に変化したと考えられる。

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使用言語	:	Japanese
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発表会議名	:	応用物理学会東北支部第67回学術講演会
開催年月	:	2012/12
開催都市	:	仙台
開催国	:	日本
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使用施設	:	SPring-8(大型放射光施設)
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受委託・共同研究相手機関	:	東北大学

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