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O$$_{2}$$供給停止後のSi(111)表面酸化状態変化のリアルタイム光電子分光観察

Real time photoelectron spectroscopic observation of oxidized states change on Si(111) surface after stopping O$$_{2}$$ supply

西本 究*; Tang, J.*; 小川 修一*; 吉越 章隆 ; 石塚 眞治*; 渡辺 大輝*; 寺岡 有殿; 高桑 雄二*

Nishimoto, Kiwamu*; Tang, J.*; Ogawa, Shuichi*; Yoshigoe, Akitaka; Ishizuka, Shinji*; Watanabe, Daiki*; Teraoka, Yuden; Takakuwa, Yuji*

Si(111)-7$$times$$7表面の酸化では準安定吸着酸素分子(O$$_{2}$$$$^{*}$$)が長い寿命をもち、Si(001)-2$$times$$1表面の酸化とは顕著に異なる酸化反応様式を示す。本研究ではSi(111)-7$$times$$7表面の室温での酸化過程におけるO$$_{2}$$$$^{*}$$の挙動を解明するために、酸素吸着曲線,仕事関数,バンドベンディング,酸素原子とSi原子の化学結合状態を光電子分光によりリアルタイム観察した。それらの観察結果から、初期酸化途中でO$$_{2}$$供給停止後のSi(111)表面の酸化状態の変化について詳しく検討した。O$$_{2}$$$$^{*}$$が解離して内部に潜り込み、酸化状態がpaulからins/triに変化したことがわかった。

no abstracts in English

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