セシウムの吸着分離に用いるヘキサシアノ鉄酸金属錯体薄膜の放射線耐性

Radiolytic stability of metal hexacyanoferrate film as adsorbent for recovery of cesium ion

有阪 真 ; 渡邉 雅之   ; 石崎 学*; 栗原 正人*; Chen, R.*; 田中 寿*

Arisaka, Makoto; Watanabe, Masayuki; Ishizaki, Manabu*; Kurihara, Masato*; Chen, R.*; Tanaka, Hisashi*

本研究では、不溶性フェロシアン化物類縁体であるヘキサシアノ鉄酸金属錯体(MHCF)から成る吸着材を電極に用い、高レベル廃液中に含まれるセシウムを電気化学的に回収することを目指している。今回は、SUS316L基板上に作成したMHCF薄膜の線照射に対する安定性について調べた。MHCF薄膜への線照射は、硝酸共存下で行われた。照射後に分離した硝酸をICP-MSにより分析したところ、MHCFを構成する鉄および銅が検出され、鉄および銅の溶出量は、70kGy程度まで一様に増加し、その後一定値となることを確認した。照射前に基板上に固定化されたMHCF重量の20-30%の溶出が起きる一方、共存する硝酸の濃度によりそれらの溶出挙動は変化しなかった。粉末状のMHCFの放射線耐性は非常に高いことがわかっているので、基板上への固定化の方法については再検討が必要であることがわかった。

Recently, we reported an electrochemical application of MHCF (M = Fe, Cu or Ni) film for Cs recovery from nitric acid (HNO) solutions. It was found that Cs loading and unloading can be easily controlled by modulating the film potential. In this study, the influence of irradiation with -rays to MHCF films on stability in HNO solutions was investigated.