CuPd(111)合金表面の初期酸化過程

Initial oxidation of CuPd(111) surface

津田 泰孝*; 牧野 隆正*; 塚田 千恵; 吉越 章隆 ; 福山 哲也*; 岡田 美智雄*

Tsuda, Yasutaka*; Makino, Takamasa*; Tsukada, Chie; Yoshigoe, Akitaka; Fukuyama, Tetsuya*; Okada, Michio*

酸化は腐食過程の中でも最も主要なものの一つである。CuPd合金は触媒作用を持つことで知られ、その表面酸化過程が注目される。本発表では、CuPd(111)表面について、分子ビームを使った初期酸化過程を詳細に調査した。その場光電子分光測定はSPring-8 BL23SUの表面化学装置にて行った。Arスパッターとアニール後の単結晶CuPdを使った。酸素雰囲気への曝露酸化に比べて、分子ビームによる酸化は反応性が高くなることが分かった。また、基板温度の上昇に伴い表面原子拡散が起きることが示唆された。

It is well-known that oxidation is an important chemical reactions in corrosion processes. CuPd has an attracting material due to its catalytic property and its oxidation is the important subject. In this presentation, initial oxidation processes at the CuPd(111) surface was studied by using molecular beams. In situ photoemission measurements were conducted using surface chemistry apparatus at BL23SU at SPring-8. Single crystal CuPd was used after cleaning by means of Ar ion sputtering and annealing. It was found that molecular beams facilitate oxidation compared to that for backfilling condition. Furthermore, diffusion of surface atoms seems to be driven with increasing surface temperature.