Room-temperature adsorption behavior of cesium onto calcium silicate insulation

室温におけるケイ酸カルシウム断熱材へのセシウム吸着挙動

Rizaal, M.   ; 斉藤 拓巳*; 岡本 孝司*; Erkan, N.*; 中島 邦久  ; 逢坂 正彦  

Rizaal, M.; Saito, Takumi*; Okamoto, Koji*; Erkan, N.*; Nakajima, Kunihisa; Osaka, Masahiko

福島第一原子力発電所2号機において、一次冷却系の断熱材に使用されているケイ酸カルシウムへのセシウム(Cs)の吸着がペデスタル領域の高線量に影響している可能性が指摘されている。本研究では、高温でのCs吸着挙動評価の前段階として、室温でCsをケイ酸カルシウムに吸着させる試験を行った。吸着速度の解析の結果、基本的な吸着機構は化学吸着であることが示唆された。また、等温における吸着量のCs濃度依存性の評価により、単分子層の形成の後に多分子層が形成することが示唆された。

The adsorption of cesium (Cs) on calcium silicate insulation of primary piping system is postulated to contribute in high dose rate of surrounding pedestal area in Fukushima Daiichi NPP unit 2. In this study, room-temperature experiment of Cs adsorption on calcium silicate has been studied as an initial approach of Cs adsorption behavior toward higher temperature condition. As the result of analyzing of Cs adsorption kinetics, it was expected that the underlying adsorption mechanism is chemisorption. Furthermore, analysis of adsorption isotherm suggested unrestricted monolayer formation followed by multilayer formation.