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K
Li
)NbO
synthesized by malic acid complex solution method米田 安宏; 高田 愛梨*; 長井 遥*; 菊池 丈幸*; 森下 正夫*; 小舟 正文*
Japanese Journal of Applied Physics, 56(10S), p.10PB07_1 - 10PB07_7, 2017/10
被引用回数：3 パーセンタイル：15.1(Physics, Applied)錯体重合法を用いて作製した(NaKLi)NbOの単射晶相を放射光を用いて構造解析した。(NaKLi)NbOの平均構造は単射晶構造であるが、局所構造はKNbOと同じ菱面体晶構造モデルで再現することができた。この結果から平均構造の単射晶構造は菱面体晶がdisorderして変調されて観測されたと考えられる。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
Radiation Physics and Chemistry, 80(2), p.149 - 152, 2011/02
被引用回数：18 パーセンタイル：77.43(Chemistry, Physical)多糖類誘導体であるカルボキシメチルセルロース(CMC)は、高濃度水溶液条件下における放射線照射によりゲル化することが知られている。従来、多糖類及びその誘導体は放射線分解型であり、放射線架橋反応は分解反応とは異なる反応機構をたどると考えられる。そこで、本研究ではCMC水溶液の放射線架橋反応機構を明らかとするため、高分子水溶液の放射線架橋反応の起因となるOHラジカルとの反応に焦点を当て、生成するCMCラジカルについてESR法により検討した。まず、過酸化水素の光分解をOHラジカル生成源としてCMCラジカルの生成及びESR測定を行い、スペクトル観測に成功した。超微細結合定数等のスペクトル解析により、同スペクトルはカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定された。次に、亜酸化窒素飽和下にあるCMC水溶液への電子線照射を行い、照射6分後においてESR測定を行ったところ、前述と同様のスペクトルが観測され、長寿命のカルボキシメチル基炭素上ラジカルの生成を見いだした。また、窒素飽和・酸素飽和下における測定においては、スペクトル強度が半減又は0となり、これらの長寿命ラジカルはOHラジカルとの反応により生成すると見いだされた。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 室屋 裕佐*; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
Radiation Physics and Chemistry, 79(3), p.276 - 278, 2010/03
被引用回数：12 パーセンタイル：59.22(Chemistry, Physical)水溶性の多糖類誘導体であるカルボキシメチルキトサン(CMCTS)は10%以上の濃厚水溶液で放射線照射により橋かけ反応を起こしゲルが形成される。しかし、放射線橋かけ反応機構の詳細については明らかではなく、放射線照射後に生成する多糖ラジカルの同定も詳細にはなされていない。そこで、水の放射線分解生成物であるOHラジカルとの反応により生成したCMCTSラジカルを高速流通法を用いた電子スピン共鳴(ESR)測定法により同定した。その結果、水溶液中におけるCMCTSラジカルを直接観測でき、生成する多糖ラジカルは、CMCTSのカルボキシメチル基の第2級炭素上にラジカルであると同定した。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 室屋 裕佐*; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)などの多糖類誘導体は濃厚水溶液状態における放射線照射によりゲル化する。しかし、多糖類誘導体の放射線架橋メカニズムは未だ明らかではなく、照射後生成する多糖ラジカルに関しても明確な同定はなされていない。本研究では、CMCとOHラジカルとの反応により生成する水溶液中のCMCラジカルを、電子スピン共鳴(ESR)法を用いて観測し、詳細なラジカル構造を検討した。10mM濃度のCMC水溶液を調製し、過酸化水素の光分解により生成したOHラジカルをCMCと反応させESR測定を行った結果、CMCラジカルに起因する2種類のESRスペクトルが判別できた。超微細構造の解析から、得られたスペクトルはC2
C3に連なるカルボキシメチル基上のラジカル及びC6に連なるカルボキシメチル基上のラジカルに起因すると同定された。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 室屋 裕佐*; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)などの多糖類誘導体は濃厚水溶液における放射線照射により架橋反応を起こしゲル化するが、CMCの放射線架橋メカニズムを理解するうえで、生成したラジカルの挙動については明らかになっていない。そこで本研究では、CMC水溶液の放射線誘起ラジカルの反応挙動を明らかとするため、放射線照射後残存する長寿命ラジカルの挙動について紫外・可視吸光測定及びESR測定を行った。紫外可視吸光測定の結果、照射数分後以降の長寿命ラジカルはおもに単一活性種で構成されることを明らかとし、ラジカルの数十分もの長寿命を観測した。照射10分後におけるESRスペクトル測定においては、OHラジカルとの反応により生成したカルボキシメチル基上のラジカルと同一のスペクトルが観測され、長寿命ラジカルはOHラジカル由来のカルボキシメチル基上のラジカルであると同定された。長寿命ラジカルの減衰挙動は強く一次反応に従い、減衰速度はCMC濃度から影響を受けることがわかった。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 室屋 裕佐*; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)などの多糖類誘導体は濃厚水溶液における放射線照射により架橋反応を起こしゲル化する。しかし、CMCの放射線架橋メカニズムの詳細は明らかではなく、照射後に生成する多糖ラジカルの同定もなされていない。そこで本研究では、水の放射線分解生成物であるOHラジカルとの反応により生成するCMCラジカルの同定を目的とした。高速流通法を用いたESR測定法により水溶液中におけるCMCラジカルを観測し、ラジカル周辺の水素原子配置や超微細結合定数などの考察から、カルボキシメチル基の第2級炭素上のラジカルであると同定した。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
Carboxymethyl cellulose (CMC) at highly concentrated aqueous solution undergoes crosslinking reactions by ionizing irradiation, though polysaccharides and their derivatives are generally classified to radiation-degradation type polymer. In this topic, focusing on CMC radicals produced by reactions with OH radical, ESR spectra were observed to understand radiation-induced reaction mechanism of CMC aqueous solution. As a result, ESR spectra of CMC radical, produced by reactions with OH radicals from photolysis of hydrogen peroxide and EB irradiation, were succeeded to observe, and were identified as radicals located on carbon atoms of carboxymethyl groups. Furthermore, the dependency on CMC concentration of the decay behavior was discussed by considering decay behaviors of ESR spectra of long-lived CMC radical.
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)は、低濃度水溶液もしくは乾燥状態で放射線照射を行うと放射線分解を引き起こすが、高濃度水溶液条件下においては架橋反応を引き起こし、ゲル化する。そこで、CMC水溶液の放射線誘起反応機構解明のため、電子線照射後にCMC水溶液内に残存する長寿命ラジカルの減衰挙動についてESR法により観測し、ラジカル反応のCMC濃度依存性について検討した。ESRスペクトルから長寿命ラジカルはカルボキシメチル基炭素上ラジカルであると同定され、その減衰挙動はCMC濃度に対して擬一次反応であることがわかった。このゆっくりとした減衰反応はカルボキシメチル基上からグルコピラノース環炭素上へのラジカル移動であると推察された。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチル化多糖類は、高濃度水溶液条件下において放射線照射により架橋反応を引き起こし、ゲル化する。水の放射線分解ラジカルであるOHラジカルとの反応により生成する高分子ラジカルを同定することは、架橋反応機構解明において重要である。そこで本研究では、ESR法により生成ラジカル種を同定し、主鎖骨格の違いによる影響を検討した。試料にはセルロース,キトサン,デンプンのカルボキシメチル化誘導体を用いた。結果、各試料のESRスペクトルはおおむね類似し、Triplet
DoubletとDoubletの2つのスペクトルに分離した。解析により前者が6位に連なるカルボキシメチル基炭素上、後者が2位または3位に連なるカルボキシメチル基炭素上のラジカルであると同定した。以上の結果、主鎖骨格の違いによらず、OHラジカルと反応して生成する高分子ラジカルには、カルボキシメチル基炭素上ラジカルが存在することを明らかとし、架橋反応機構解明に有用な知見を得た。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)等の多糖類誘導体は、高濃度水溶液条件下において放射線架橋反応を優位に起こすことが知られている。本研究では、その放射線誘起反応機構について明らかにするため、架橋反応の起因となるOHラジカルとの反応により生成するCMCラジカルのラジカルサイト及び減衰挙動についてESR法により検討した。亜酸化窒素飽和下においたCMC水溶液に対し電子線照射を行い、残存する長寿命ラジカルを6位もしくは2・3位に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定した。また、時間経過に連れてスペクトル形状が変化しないことから、各位に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルの割合は変化しないことを確認した。さらに、長寿命CMCラジカルの減衰挙動は指数関数的であり、かつCMC濃度依存性を有することから、CMC高分子間におけるラジカル移動であると推測された。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
カルボキシメチルセルロース(CMC)等の多糖類誘導体は、高濃度水溶液条件下において放射線架橋し、ハイドロゲルとなる。本研究では、放射線架橋型多糖類誘導体の水溶液中における放射線誘起反応機構を明らかにするため、CMCをモデル物質として、放射線架橋に関与する多糖類誘導体ラジカルの同定を目的とした。高分子水溶液中における放射線架橋反応は、水の放射線分解生成物であるOHラジカルにおもに起因する。そこで、OHラジカルの生成源として、過酸化水素の光分解及び電子線照射による水の放射線分解を用い、OHラジカルとの反応により生成するCMCラジカルのESR測定を行い、比較検討を行った。結果、両実験において同形スペクトルが観測され、カルボキシメチル基炭素上ラジカルの存在が明らかとなった。また、本実験装置・手法の時間分解能から、測定されたカルボキシメチル基炭素上ラジカルは非常に長寿命であることがわかった。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
多糖類誘導体であるカルボキシメチルセルロース(CMC)は、高濃度水溶液条件下における放射線照射によりゲル化することが知られている。従来、多糖類及びその誘導体は放射線分解型であり、放射線架橋反応は分解反応とは異なる反応機構をたどると考えられる。そこで、本研究ではCMC水溶液の放射線架橋反応機構を明らかとするため、高分子水溶液の放射線架橋反応の起因となるOHラジカルとの反応に焦点を当て、生成するCMCラジカルについてESR法により検討した。過酸化水素の光分解をOHラジカル生成源としてCMCラジカルの生成及びESR測定に成功し、観測されたESRスペクトルは、超微細結合定数等のスペクトル解析によりカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定された。また、CMC濃度の増加につれて、スペクトルの線幅の増加を確認し、カルボキシメチル基炭素上ラジカルの運動性の低下をESRスペクトル上に見いだした。
佐伯 誠一; 長澤 尚胤; 廣木 章博; 森下 憲雄; 玉田 正男; 工藤 久明*; 勝村 庸介*
no journal, ,
従来多糖類は放射線照射により低分子量化を伴う分解反応を起こすが、カルボキシメチル化した多糖類を高濃度水溶液条件下において放射線照射を行うと、架橋反応が優位に起き、ゲル化する。特にカルボキシメチルキトサンの場合、キトサンが本来有する抗菌性や金属吸着能を備えた機能性ハイドロゲルとなる。本研究では、放射線架橋の一因となるOHラジカルとの反応により生成するカルボキシメチルキトサンラジカルについて、フローシステムを用いたESR測定により検討を行った。測定により得られたESRスペクトルは、超微細結合定数や重ね合わせシミュレーションによる検討から、TripletDoubletとDoubletの重ね合わせと解釈され、それぞれ6位炭素に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカル、及び3位炭素に連なるカルボキシメチル基炭素上ラジカルと同定された。
小玉 翔平*; 黒澤 俊介*; 森下 祐樹; 宇佐美 博士; 林 真照*; 田中 浩基*; 吉野 将生*; 鎌田 圭*; 吉川 彰*; 鳥居 建男
no journal, ,
福島第一原子力発電所の廃炉に向け、長尺光ファイバーと赤色発光シンチレータを用いた放射線の遠隔測定技術の開発および使用シンチレータの選定について検討した。従来から検討されているルビーシンチレータと、われわれが開発した新規材料であるセシウム・ハフニウム沃化物をプローブとして用い、京都大学複合原子力科学研究所・コバルト60ガンマ線照射装置にて光ファイバーでの光読み出し試験を行った。シンチレーション光はSi-フォト・ダイオードまたはCCD分光器を用いて検出を行い、空間線量率と信号強度の線形性を評価した結果、すべてのシンチレータ・検出器の組み合わせで線形性が確認できた。
