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Analysis of transient current induced in silicon carbide diodes by oxygen-ion microbeams

炭化ケイ素ダイオード中に酸素イオンマイクロビームにより誘起された過渡電流解析

大島 武; 佐藤 隆博; 及川 将一*; 山川 猛; 小野田 忍; 若狭 剛史; Laird, J. S.; 平尾 敏雄; 神谷 富裕; 伊藤 久義; 木下 明将*; 田中 礼三郎*; 中野 逸夫*; 岩見 基弘*; 福島 靖孝*

Oshima, Takeshi; Sato, Takahiro; Oikawa, Masakazu*; Yamakawa, Takeshi; Onoda, Shinobu; Wakasa, Takeshi; Laird, J. S.; Hirao, Toshio; Kamiya, Tomihiro; Ito, Hisayoshi; Kinoshita, Akimasa*; Tanaka, Reisaburo*; Nakano, Itsuo*; Iwami, Motohiro*; Fukushima, Yasutaka*

炭化ケイ素半導体(SiC)を用いた耐放射線性検出器開発のために、15MeV酸素マイクロビームが入射することでSiC pnダイオード中に誘起される過渡電流を調べた。SiC pnダイオードは、p型六方晶(6H)SiCエピタキシャル基板に高温(800$$^{circ}$$C)リンイオン注入後アルゴン中で1650$$^{circ}$$C,3分間の熱処理をすることでn$$^{+}$$層を形成し、作製した。過渡電流は原研高崎TIARAタンデム加速器に接続された単一イオン入射過渡イオンビーム誘起電流(TIBIC)システムにて評価を行った。その結果、印加電圧の増加とともに過渡電流シグナルのピークが高くなり、かつ収集時間が短くなることが観測された。この結果は、印加電圧の増加とともに電界強度が強く、空乏層長が伸びることで説明できる。過渡電流シグナルを積分することで収集電荷を見積もったところ、印加電圧の増加とともに収集効率が上昇し、100V以上では100%の収集効率であることが確認できた。

no abstracts in English

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