PBW微細加工によるPDMSを基材としたフレキシブル光導波路の開発

Development of PDMS-based flexible waveguide fabricated by PBW fine processing

猿谷 良太*; 加藤 聖*; 久保田 篤志*; 三浦 健太*; 加田 渉*; 佐藤 隆博; 江夏 昌志; 石井 保行; 神谷 富裕; 西川 宏之*; 花泉 修*

Saruya, Ryota*; Kato, Hijiri*; Kubota, Atsushi*; Miura, Kenta*; Kada, Wataru*; Sato, Takahiro; Koka, Masashi; Ishii, Yasuyuki; Kamiya, Tomihiro; Nishikawa, Hiroyuki*; Hanaizumi, Osamu*

本研究では、プロトン・ビーム・ライティング(Proton Beam Writing: PBW)技術を用いて汎用加工素材のPDMS(polydimethylsiloxane)にマッハツェンダー干渉計(Mach-Zehnder Interferometer: MZI)型の光導波路を描画するためのHマイクロビームの照射量を見出すことを目的とした。750keVのHマイクロビームを用いて、Si基板上にスピンコート法で成膜した厚さ30mのPDMS(架橋剤の混合比10:1)の試料に、幅8mのMZI型形状を様々なフルエンスで描画した。これらの試料に光を通した結果、特定な照射量(40100nC/mm程度)で光が導波路中を良好に伝搬することを示すシングルモードの出射光を観察できた。これによってPDMS材料にPBWでMZI型形状の導波路を製作する際に必要な描画時の照射量を見出すことができた。

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