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内殻イオン化によるDNA損傷と局在化

Localization of DNA damage induced by inner-shell ionization

横谷 明徳; 鵜飼 正敏*; 岡 壽崇*   ; 甲斐 健師   ; 渡辺 立子; 藤井 健太郎

Yokoya, Akinari; Ukai, Masatoshi*; Oka, Toshitaka*; Kai, Takeshi; Watanabe, Ritsuko; Fujii, Kentaro

細胞致死や突然変異などの放射線生物影響の根本原因の一つとされる、DNA分子損傷の局在化の物理メカニズムとその細胞学的影響における役割を明らかにすることが本研究の目的である。これまでに、生体を構成する元素に生じた内殻イオン化と、これに続くAuger過程の物理的な理論及びシミュレーションを行うと同時に、シンクロトロン放射から得られる高輝度の軟X線を用いた分光測定も行い、理論と実験の両面からDNA損傷生成プロセスの探索を行ってきた。特に、内殻イオン化やこれに続く電子の再捕獲などこれまで考慮されていなかった事象を考慮することで、ナノメートル程度の局所に損傷が局在化するクラスターDNA損傷の生成過程に関する知見を得つつある。本論文では、これらの研究の現状を解説する。

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