富田 涼平 
; 富田 純平 
; 蓬田 匠 
; 鈴木 大輔 ; 安田 健一郎 ; 江坂 文孝 ; 宮本 ユタカ
Tomita, Ryohei; Tomita, Jumpei; Yomogida, Takumi; Suzuki, Daisuke; Yasuda, Kenichiro; Esaka, Fumitaka; Miyamoto, Yutaka
大型二次イオン質量分析装置(LG-SIMS)を使用したウラン粒子のスクリーニング測定(APM)は広い測定領域に複数の粒子を収め、測定範囲内に存在する個々の粒子の座標と同位体組成の情報を得る連続測定である。特に高濃縮の粒子を含むAPMではウラン粒子表面の水素化物生成比が高い場合に
U$測定値$=
U
H+U$真値$となる影響を受けてUの存在率が見かけ上高くなる。APMでは個々の粒子から得られる二次イオンが少ないため正確な水素化物補正ができず、この影響でウラン全体に対するUの存在率が見かけ上低下する問題が起きる。そこでAPMの測定前に一定時間だけイオンビームを照射することでウラン粒子表面の水素化物生成比の低減を試みた。また、粒子表面を十分にスパッタしやすいマニピュレーション-APM(APM-mani)についても実験を行い、水素化物を効果的に低減できるスクリーニング条件を検討した。
no abstracts in English
発表言語 |
: | Japanese |
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掲載資料名 |
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巻 |
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号 |
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ページ数 |
: | p.146 - 150 |
発行年月 |
: | 2021/12 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 2021/03 |
開催都市 |
: | つくば(online) |
開催国 |
: | 日本 |
キーワード |
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論文URL |
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使用施設 |
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論文解説記事 |
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