Adsorption of Lawrencium (Z = 103) on a tantalum surface

タンタル表面に対するローレンシウム(Z=103)の吸着挙動

富塚 知博; 金谷 佑亮*; 佐藤 哲也   ; 浅井 雅人  ; 塚田 和明  ; 豊嶋 厚史; 水飼 秋菜; 長 明彦  ; 西尾 勝久   ; 永目 諭一郎 ; 大江 一弘*; 阪間 稔*; 宮下 直*; 柴田 理尋*; 笠松 良崇*; Eichler, R.*; Dllmann, Ch. E.*; Trautmann, N.*; Kratz, J. V.*; Schdel, M.*

Tomitsuka, Tomohiro; Kaneya, Yusuke*; Sato, Tetsuya; Asai, Masato; Tsukada, Kazuaki; Toyoshima, Atsushi; Mitsukai, Akina; Osa, Akihiko; Nishio, Katsuhisa; Nagame, Yuichiro; Oe, Kazuhiro*; Sakama, Minoru*; Miyashita, Sunao*; Shibata, Michihiro*; Kasamatsu, Yoshitaka*; Eichler, R.*; Dllmann, Ch. E.*; Trautmann, N.*; Kratz, J. V.*; Schdel, M.*

タンタル表面におけるローレンシウム(Lr, Z = 103)の吸着挙動を調べるため、種々の温度条件におけるLrのイオン化効率を測定した。得られたイオン化効率は、低温領域においてSaha-Langmuir式の計算値より低い値となった。得られたイオン化効率の温度依存性に基づいて、タンタル表面へのLrの吸着挙動について議論する。

In order to investigate the adsorption behavior of Lawrencium (Lr, Z = 103) on a Tantalum (Ta) surface, we measured ionization efficiencies of Lr under several temperature conditions of the surface ionization. We observed ionization efficiencies of Lr which were lower than those calculated by the Saha-Langmuir equation in lower temperature region. Based on a temperature dependence of the obtained ionization efficiencies, we discuss the adsorption behavior of Lr on the Ta surface.