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次世代再処理ガラス固化のための吸着ガラスの$$gamma$$線照射耐性評価

$$gamma$$-ray resistant assessment of MA adsorbent for the next generation vitrification

宮崎 康典 ; 佐野 雄一 ; 小藤 博英 ; 渡部 創 ; 江夏 昌志*; 佐藤 隆博*

Miyazaki, Yasunori; Sano, Yuichi; Kofuji, Hirohide; Watanabe, So; Koka, Masashi*; Sato, Takahiro*

経済産業省資源エネルギー庁の受託業務「平成28年度次世代再処理ガラス固化技術基盤研究事業」で量子科学技術研究開発機構高崎量子応用研究所に再委託した研究内容を発表する。本研究では、抽出クロマトグラフィを用いて高レベル放射性廃液からマイナーアクチノイド(MA)を分離回収した後、使用済吸着ガラスをガラス固化するまでの保管を想定した$$gamma$$線耐性評価試験を行った。具体的には、$$gamma$$線照射線量に対するEu漏出率を調査し、ガラス粒子のEu分布をPIXE分析によって明らかにすることで、吸着ガラスの劣化を定量的に評価した。劣化CMPO吸着ガラスは、溶出液のICP分析から約50%のEu漏出率(2MGy)を確認し、ガラス粒子のPIXE分析からもEuの表面密度の減少が確認できた。一方で、劣化HDEHP吸着ガラスは、溶出液に沈殿が起きており、ICP分析による定量評価ができなかった。今後、PIXE分析による定量評価を実施する予定である。まとめると、MA回収後に吸着ガラスで長期保管する場合、CMPOは分解しやすく、漏出率が高くなるため、使用には適していないことが明らかになった。HDEHPの利用に関しては今後の課題である。

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