関根 俊明; 出雲 三四六; 松岡 弘充; 小林 勝利; 重田 典子; 長 明彦 
; 小泉 光生 ; 本石 章司; 橋本 和幸; 初川 雄一; 坂本 文徳 ; 反田 孝美; 守屋 孝; 工藤 博司; 梅沢 弘一*; 渡辺 博正
Sekine, Toshiaki; Izumo, Mishiroku; Matsuoka, Hiromitsu; Kobayashi, Katsutoshi; not registered; Osa, Akihiko; Koizumi, Mitsuo; Motoishi, Shoji; Hashimoto, Kazuyuki; not registered; Sakamoto, Fuminori; Sorita, Takami; not registered; Kudo, Hiroshi; not registered; Watanabe, Hiromasa
高崎研イオン照射研究施設TIARAのAVFサイクロトロンのイオンビームを用いるラジオアイソトープ製造研究施設の設備と研究内容について発表する。施設は照射室、ホットラボ、測定室、化学実験室からなり、これらに照射装置、固体ターゲット搬送装置、化学分離セル、標識化合物合成セル、フード等を備えている。照射装置は一本のビームラインで固体・液体・気体の照射を可能にする点でユニークである。これらを用いてこれまでに
Ce製造技術の開発、
W(p,n)Re反応励起関数測定を行った。
no abstracts in English
使用言語 |
: | English |
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掲載資料名 |
: | Proc. of the 5th Int. Workshop on Targetry and Target Chemistry |
巻 |
: | 0 |
号 |
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ページ数 |
: | p.347 - 352 |
発行年月 |
: | 1994/00 |
発表会議名 |
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開催年月 |
: | 1993/09 |
開催都市 |
: | America |
開催国 |
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キーワード |
: | Radioisotope; Radioisotope Production; Ion Beam; AVF Cyclotron; Targetry; Labelled Compound |
論文URL |
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論文解説記事 |
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Access |
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Altmetrics |
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